Späť

Podklad na tvár Clean ID Pore Minimizing

 
Clean ID Pore Minimizer Primer Clean ID Pore Minimizer Primer
(4 Hlasuj)
  • Prírodné zložky
  • Minimalizuje póry, vyrovnáva nepravidelnosti a malé línie
  • Pre bezchybný vzhľad
  • Vegan
 
Clean ID Pore Minimizer Primer Clean ID Pore Minimizer Primer

Silný výkon a čisté zložky: Podkladová báza Clean ID Pore Minimizer viditeľne zjemňuje póry a vytvára hladkú, bezchybnú pleť. Podkladová báza Clean ID Pore Minimizer bol vyvinutý špeciálne pre citlivú pleť, je nekomedogénny a neobsahuje žiadne silikóny ani parfumy. Jeho zložky sú 98 percentné prírodné. Dá sa použiť ako základ pod make-up alebo ako samostatne.

Beauty Tip
Aj keď v konečnom výsledku make-upu podklad nevidíme, je tu stále – a je absolútne nevyhnutný pre nádherné, dlhotrvajúce a hladké výsledky. Pred nanesením podkladu pleť dôkladne očistite a aplikujte ošetrovací prípravok, aby ste si udržali hydratovanú pleť po celý deň. Po niekoľkých minútach aplikujte podkladovú bázu a zapracujte ju do pokožky, potom nasleduje make-up, korektor atď.

4 Hlasuj

INGREDIENTS: AQUA (WATER), SILICA, C13-15 ALKANE, C15-19 ALKANE, POLYGLYCERYL-3 DIISOSTEARATE, GLYCERIN, POLYGLYCERYL-6 OLEATE, DICAPRYLYL ETHER, DISTARCH PHOSPHATE, JOJOBA ESTERS, GLYCERYL BEHENATE, MAGNESIUM SULFATE, SODIUM CHLORIDE, TRIHYDROXYSTEARIN, LYSINE, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED WAX, POLYGLYCERIN-3, ACACIA DECURRENS FLOWER CERA (ACACIA DECURRENS FLOWER WAX), TOCOPHEROL, POTASSIUM CETYL PHOSPHATE, CETYL ALCOHOL, ETHYLHEXYLGLYCERIN, XANTHAN GUM, ETHYL VANILLIN, LECITHIN, SODIUM LAUROYL GLUTAMATE, ASCORBYL PALMITATE, MAGNESIUM CHLORIDE, ALCOHOL, ALUMINUM HYDROXIDE, DIPOTASSIUM PHOSPHATE, CITRIC ACID, PHENOXYETHANOL, CI 77491 (IRON OXIDES), CI 77492 (IRON OXIDES), CI 77891 (TITANIUM DIOXIDE).


Vegan

Podkladová vrstva na zdokonalenie pleti. Pred použitím dobre potraste.